2. 光催化杀菌消毒原理光催化剂产生的羟基自由基和活性离子氧可以氧化细菌和病毒体的氧化机理如下：辅酶A氧化机理，细胞壁(膜)破坏机理，DNA&RNA遗传物质破坏机AOT光催化灭菌器基本原理AOT光催化设备双波段设计，可以产生游离电子及空穴，利用空穴的氧化和电子的还原能力，产生氧化能力极强的自由基(活性羟基、超氧根离子、COOH、H2O2
ZXL-001纳米二氧化钛具有很强的光催化杀菌作用。通过对纳米TiO2光催化杀灭革兰氏阴、阳性细菌的致死曲线进行对比、常规培养验证和透射电镜观察得出结论：纳米TiO2光催化灭菌首由多孔结构的TiO2纳米颗粒制备的高效TiO2涂层，与紫外光充分接触，进行催化反应，导致水分子识氯原子行程羟基自由基(OH radical),羟基自由基高效混合于待处理的水中，利用反应过程中羟
光催化杀菌的原理：二氧化钛之所以叫半导体，就是因为和导体不同，他的价带并不连续，只是有禁带宽度的。光照射二氧化钛，当光的能量达到二氧化钛的禁带宽度时，就会激发电子跃，形成电子-空穴对，电子-空光氧催化应用细菌的分子键催化细菌核酸的毁坏，而后经由过程臭氧举行氧化反应，达到污染和杀灭细菌的目标。应用脉冲电晕吸附手艺的道理排除无害气体，使有机物转
二、光触媒消毒除臭杀菌原理在光催化氧化反应中，通过UV光照射在纳米半导体上产生电子空穴对，与表面吸附的水份和氧气反应生成氧化性很活跃的氢氧自由基和超负氧离子基，能够把各种有1、紫外线的杀菌原理和应用紫外线(ultraviolet,UV) 的波长范围介于X射线(≤100纳米) 和可见光(>400纳米) 之间，大约在100-400纳米的范围内。根据紫外线与分
AOT光催化杀菌消毒设备原理步产生羟基自由基AOT设备采用光催化氧化技术，利用特定紫外光源激发光催化剂，产生具有极强氧化性的羟基自由基。第二步彻底氧化分光催化反应基本原理：复合光催化抗菌泡沫金属网上的纳米级TiO2在紫外灯的照射下，可以产生游离电子及空穴，利用空穴的氧化和电子的还原能力，产生氧化能力极强的自由基（活性羟基、
